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'HBMÀÇ ¹Ì·¡°¡ ¿©±â¿¡' ±èÁ¤È£ ±³¼ö, HBM ±â¼ú ¹ßǥȸ °³ÃÖ

¿À´Â 2040³â±îÁö ÇâÈÄ 15³â°£ÀÇ °í´ë¿ªÆø ¸Þ¸ð¸®¹ÝµµÃ¼(HBM) ¾ÆÅ°ÅØÃ³¿Í ±¸Á¶, ¼º´É, ¼¼´ëº° Ư¼ºÀ» ¹Ì¸® Àü¸ÁÇØ º¸´Â ±â¼ú ¹ßǥȸ°¡ ¿­¸°´Ù.



KAIST Àü±â¹×ÀüÀÚ°øÇкΠ±èÁ¤È£ ±³¼ö ¿¬±¸½Ç(TERA Lab)Àº ÀΰøÁö´É(AI) ½Ã´ë¸¦ À̲ø¾î°¥ ÇÙ½É ±â¼úÀÎ HBM4ºÎÅÍ HBM8¿¡ À̸£±â±îÁö Â÷¼¼´ë HBMÀÇ ¾ÆÅ°ÅØÃ³¿Í ±¸Á¶, ¼º´É, Ư¼º µî HBMÀÇ ¹Ì·¡¸¦ ÇÑÀÚ¸®¿¡¼­ Á¶¸ÁÇÏ´Â 'Â÷¼¼´ë HBM Roadmap(2025~2040) ±â¼ú ¹ßǥȸ'¸¦ ¿À´Â 6¿ù 11ÀÏ ¿ÀÀü 9½ÃºÎÅÍ °³ÃÖÇÑ´Ù°í 28ÀÏ ¹àÇû´Ù.


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À̹ø ±â¼ú ¹ßǥȸ¿¡¼­´Â ¼¼´ëº° HBMÀÇ ±¸Á¶¿Í ¼º´É, Ư¼º ¿Ü¿¡µµ AI ¹ÝµµÃ¼ ¿¬»ê ¼ÓµµÀÇ È¹±âÀûÀÎ Çâ»ó°ú °³¼±À» À§ÇØ ÇʼöÀûÀÎ µ¥ÀÌÅÍ ´ë¿ªÆøÀÇ È®ÀåÀ» À§ÇÑ TSV(Through-Silicon Via)¿Í ÀÎÅÍÆ÷Àú, µö ¿¡Äª((Deep Etching) ±â¼ú µî°ú Àü±âÀû ½Å·Ú¼º È®º¸¸¦ À§ÇÑ ÇÏÀ̺긮µå º»µù ±â¼ú, ¹ß¿­ ¹®Á¦ ÇØ°áÀ» À§ÇÑ ³Ã°¢¿ë TSV ±â¼ú µî ´Ù¾çÇÑ ÇÙ½É ¿ä¼Ò ±â¼úÀÇ ¹ßÀü ¹æÇâ°ú ³­Á¦ ±Øº¹À» À§ÇÑ ¿¬±¸ ³»¿ëµµ ÇÔ²² ¼Ò°³µÈ´Ù.


À̹ø ¹ßǥȸ´Â ¿À´Â 6¿ù 11ÀÏ ¿ÀÀü 9½ÃºÎÅÍ ¿ÀÈÄ 5½Ã 40ºÐ±îÁö ¾à 8½Ã°£¿¡ °ÉÃÄ ÁÜ(ZOOM)À» ÅëÇØ »ýÁß°èµÇ¸ç, ¿¬±¸½Ç ȨÆäÀÌÁö¸¦ ÅëÇØ À¯Æ©ºê·Î °ø°³µÉ ¿¹Á¤ÀÌ´Ù.


'HBMÀÇ ¾Æ¹öÁö'·Î ºÒ¸®´Â ±èÁ¤È£ ±³¼ö°¡ À̲ô´Â ¿¬±¸½ÇÀº Áö³­ 20³â ÀÌ»ó HBM °ü·Ã ¼³°è ±â¼úÀ» ¼¼°èÀûÀ¸·Î ÁÖµµÇϰí ÀÖÀ¸¸ç, 2010³âºÎÅÍ´Â ½ÇÁ¦ HBM »ó¿ëÈ­ ¼³°è¿¡µµ Á÷Á¢ Âü¿©Çϰí ÀÖ´Ù.
ÃÖ±Ù¿¡´Â HBM ¼³°è¸¦ ÀΰøÁö´ÉÀ¸·Î ÀÚµ¿È­ÇÏ´Â ¿¬±¸µµ ÇÔ²² ÁøÇà ÁßÀÌ´Ù.
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±èÁ¤È£ ±³¼ö´Â "À̹ø ±â¼ú ¹ßǥȸ´Â AI ¹ÝµµÃ¼ÀÇ ÇÙ½ÉÃàÀ¸·Î ÀÚ¸® ÀâÀº HBM °ü·Ã ±â¼úÀÇ ¹Ì·¡¿¡ ´ëÇÑ »êÇп¬ÀÇ ÀÌÇØ¸¦ ³ôÀÌ°í ±¹³» ¹ÝµµÃ¼»ê¾÷ÀÇ Áö¼Ó °¡´ÉÇÑ ¼ºÀå¿¡ ±â¿©¸¦ ¸ñÇ¥·Î ±×µ¿¾È ÇлýµéÀÌ ¿¬±¸ÇØ ¿Â Â÷¼¼´ë HBM °ü·Ã ±â¼úÀûÀÎ ¾ÆÀ̵ð¾î¿Í ¹æÇâÀ» ¼Ò°³Çϱâ À§ÇØ ¸¶·ÃÇÑ °Í"À̶ó°í ¸»Çß´Ù.


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