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대법원 1부(주심 신숙희 대법관)는 산업기술보호법 위반과 부정경쟁방지법 위반(영업비밀 국외누설 등) 혐의로 기소된 SK하이닉스 협력업체 부사장 A(61)씨에게 징역 1년 6개월을 선고한 원심 판결을 12일 확정했다.
이 업체 연구소장 등 다른 직원 3명도 징역 1년∼징역 1년6개월의 실형을, 다른 직원 1명은 징역 8개월에 집행유예 2년을 확정받았다.
양벌규정에 따라 이들과 함께 기소된 협력업체 법인에도 벌금 10억원이 확정됐다.
A씨 등은 SK하이닉스와 협업하며 알게 된 반도체 세정 레시피와 하이케이메탈게이트(HKMG) 반도체 제조 기술 등 반도체 관련 핵심기술, 첨단기술, 영업비밀 등을 2018년쯤 중국 반도체 경쟁업체로 유출한 혐의로 재판에 넘겨졌다.
HKMG는 누설 전류를 막고 정전용량을 개선한 차세대 공정이다.
D램 반도체의 속도를 높이면서도 소모 전력을 줄일 수 있는 신기술로 알려져 있다.
이들에겐 삼성전자의 자회사인 세메스의 전직 직원들을 통해 몰래 취득한 세메스의 초임계(액체와 기체를 구분할 수 없는 상태) 세정장비 도면 등 반도체 첨단기술과 영업비밀을 활용, 중국 수출용 장비를 개발한 혐의도 적용됐다.
앞서 이 사건 1심은 A씨에게 징역 1년을 선고했으나 2심은 징역 1년6개월로 형량을 높였다.
1심에서 징역형 집행유예를 선고받은 직원 3명도 2심에서 징역 1년∼1년6개월로 형이 늘어났다.
1심에서 무죄를 선고받았던 나머지 직원 1명은 징역형 집유를 선고받았다.
2심 재판부는 SK하이닉스와 공동 개발한 기술 정보를 다른 업체에 알려준 부분을 무죄로 본 1심과 달리, 유죄라고 판단했다.
검찰과 피고인들 모두 상고했다.
대법원은 “원심 판단에 논리와 경험의 법칙을 위반해 자유심증주의의 한계를 벗어나거나 산업기술보호법 위반에서 정한 국가핵심기술과 첨단기술, 부정경쟁방지법에서 정한 영업비밀 등에 관한 법리를 오해한 잘못이 없다”며 상고를 모두 기각했다.
김주영 기자 bueno@segye.com
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